钽颗粒 高纯钽颗粒 定做钽颗粒

标准：ASTM B365

牌号：R05200， Ta1

纯度：99.95%纯钽

密度：16.6 g/cm3

熔点：3017℃

规格：可根据客户要求定做生产。

应运领域：主要用做添加，用于制作真空高炉用发热部件、隔热部件和装料器皿，在化学工业中可用于制作蒸煮器、加热器、冷却器、各种器皿器件等，以及在航空、航天工业、医疗器械等领域有广泛应用。

真空镀膜用高纯度钽颗粒，在现代科技发展的时代背景下，各种表面处理技术逐渐成为重要的工业生产环节。而真空镀膜作为一种常用的表面处理技术，已广泛应用于电子、光学、材料等领域。

高纯度钽颗粒

钽是一种重要的工业金属材料，具有良好的机械性能和化学稳定性。在真空镀膜过程中，高纯度钽颗粒被广泛用于镀膜材料的制备和催化剂的载体。钽颗粒的高纯度能够保证镀膜的均匀性和稳定性，提高材料表面的耐腐蚀性和附着力。

高纯度钽颗粒在真空镀膜中的应用

镀膜材料制备

高纯度钽颗粒作为镀膜材料的制备原料，具有以下优点：

高纯度：高纯度的钽颗粒能够减少杂质对镀膜质量的影响，保证材料表面的均匀性和稳定性。

强度：钽颗粒具有良好的机械性能，能够增加镀膜层的强度和硬度，提高材料的耐磨损性。

催化剂载体

高纯度钽颗粒作为催化剂的载体，具有以下优点：

均匀分布：钽颗粒能够提供大量的催化活性位点，并且具有均匀的分布，从而提高催化剂的效率和稳定性。

热稳定性：钽颗粒具有较高的熔点和热稳定性，能够在高温环境中保持催化剂的活性。

高纯度钽颗粒作为真空镀膜和催化剂中的重要原料，具有优异的性能和广泛的应用领域。在真空镀膜过程中，高纯度钽颗粒能够提高镀膜材料的质量和稳定性；在催化剂载体中，钽颗粒能够提供均匀分布的活性位点，并且具有较高的热稳定性

。因此，使用高纯度钽颗粒在真空镀膜和催化剂中是一种可行且有效的选择